IZ4 - Kolloquium

28.03.2017|11:02 Uhr

Hiermit möchten wir recht herzlich zu folgenden Vorträgen im Rahmen des IfP-Kolloquiums einladen:

Band Gap Engineering and Defect Design of Metal Oxides using Molecular Layer Deposition

Mo., 08.05.17, 16:00 Uhr FZH3 Campus Freudenberg

Dr. Roie Yerushalmi

Institute for Chemistry and the Center for Nanoscience and Nanotechnology, The Hebrew University of Jerusalem, Jerusalem 91904, Israel

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und

Hybrid Resistive Memory Elements: Fundamental Considerations and Emerging Device Applications

Mo., 29.05.17, 16:00 Uhr FZH3 Campus Freudenberg

Dr. Sandro Francesco Tedde

Siemens Healthcare GmbH, Strategy & Innovation Technology Center, Basic Medical Technologies, HC SI TC BMT, Günther-Scharowsky-Str. 1, 91058 Erlangen

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